关于光刻机，中国需要做哪些方面的突破「法定节假日2023」

各位网友好，小编关注的话题，就是关于2024法定节假日用光的问题，为大家整理了1个问题2024法定节假日用光的解答内容来自网络整理。

关于光刻机，中国需要做哪些方面的突破

谢谢您的问题。中国在双工件台、EUV曝光系统都需要突破。

光刻机的核心技术。 光刻机两大核心技术分别是：双工件台、EUV曝光系统。中科院长春光机所研究EUV曝光系统，2002年造出国内第一套EUV光刻原理装置，目前已经造出32纳米芯片的EUV曝光系统，但是跟国际先进水平相差不小。此外，中国是第二个掌握双工件台技术的国家。荷兰的ASML公司是全球光刻机老大，市场份额90%以上。

上海微电子是龙头企业。国内光刻机的龙头老大是上海微电子装备有限公司，该公司从事半导体和高端智能装备的制造、销售，主营光刻设备。上海微电子于2002年成立，建设初期承担了“十五”光刻机攻关项目。值得一提的是，上海微电子是国有控股企业，上海市国资委是最大股东，占股32.09%。足见光刻机得到了国家重视，是举国推进的重大技术专项。

上海微电子的技术进展。上海微电子的光刻机针对低端市场，已经量产90纳米、110纳米和280纳米等三种光刻机，其中90nm光刻机最为成熟，是激光成像。目前正在研发65nm工艺光刻机，缩小与ASML的差距，国外已经做到十几纳米。上海微电子最好的光刻机，包含13个分系统，3万个机械零件，全部要性能稳定。双工件台包括测量台、曝光台，上海微电子已经打破了国外的技术垄断。此外还有激光器、光束矫正器、能量控制器、 遮光器、物镜等，需要协同发展，不能有任何短板，这都是今后要努力的方向。其中，镜片的技术和材质要求极高，要极为均匀。人不同，光洁度、均匀度有巨大差异。在国外公司，做镜头的往往是一家几代人，就是为了经验和技能的传承。光刻机是政策、技术、人才的综合竞争。
欢迎关注，批评指正。

ASML在荷兰，但最大持股人是米国，股东有台湾的台积电和三星等…将一堆沙子变成集成度这么高的芯片，才使得现在的手提电脑，智能手机等变得这么轻薄，这是人类智慧结晶的最高殿堂级产品，不是有钱就能买的，此公司产品也只卖股东，现在7纳米的晶体管已量产，5纳米和3纳米的正在研发，估计也很快量产，但国产的水平应该在20纳米左右，差距不是一只半点，我们需要的不仅仅是弯道超车，而可以汇聚更多的顶尖人才变道超车，阿里巴巴马云组建的达摩院就是以此为方向的一个科研机构。很多技术我们既然落后太多，与其花精力去追赶，还不如换个思路进行变道反超，从不同的方向找到一个可以取代它的产品就行了，能够找到可以取代它的技术，那米国再牛逼的技术，也将变得一文不值。就像汽油发动机取代蒸汽机，电车竞争油车一样。

原理中国当然掌握，中国90nm已经到2004年水平。要想达到荷兰光刻机水平，第一是光学技术，荷兰自己本身都没有这个水平，是拉德国蔡司入伙，是世界目前最顶级的光学水平，胜小日本一头。如果能达到水平，间谍卫星和相机📷镜头一定是世界一流。第二是光源，这个中国差距应该最小。第三精密加工，包括精密数控，中国目前是二流水平，这个也是德国和小日本水平一流。因为上述部件对中国都是禁运，所以中国没法象C919那样攒零件。而且注意到了吗，光学和精密加工日本技术都是一流，没错，日本的光刻机也是一流的，排在荷兰后面，但是，这个比赛只有第一才能获奖，台积电、韩国三星都是荷兰光刻机股东，中芯国际也是用荷兰产品，而且，中俄禁运日本也不能卖，所以，报导说日本已经不开发7nm的光刻机了，没有认真核实，

目前很多人都知道光刻机在芯片制造过种非常重要，甚至如果从工艺来看，光刻过程占所有制造过程的40%左右的工时，所以特别特别重要。

但目前ASML的光刻机能生产5nm的芯片，我们仅能生产90nm工艺的光刻机，那么这中间的难度究竟在哪里？

一、光刻机的核心技术是什么？

为了好好的回答这个问题，我们可能需要从光刻机的原理和工作过程说起。

简单的来讲，光刻机的原理其实就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好的集成电路图形通过光线投到涂了光刻胶的硅晶圆上，这样硅晶圆上就会有电路图了，其中最核心的就是光源、镜头。

但上前面也说了，光刻机的作用是用光在硅晶圆上刻画出电路线，而由于芯片是非常精密的东西，芯片工艺甚至用nm来度量，再加上芯片要刻的不只是一层电路，有些甚至几十层电路。

所以如何保证刻得准，另外多次刻时没有偏差，这里有两个指标，就是分辨率和套刻精分辨率是指光刻机应用于的工艺节点水平。而套刻精度就是多次刻录时彼此图形的对准精度，如果对准的偏差过大，就会直接影响产品的良率。

二、差距在哪里？

好了，看到这里基本大家就明白了，在有光源、镜头的情况下，怎么将光刻机的分辨率提升上去，将套刻精度提升上去，光刻机就是一台好的光刻机。

其中光源、镜头ASML也不生产，是采购的，尤其镜头主要是日本厂商提供的。但分辨率、套刻精度，则是ASML要搞定的。

这就涉及到组装水平了，同时需要和芯片制造工艺不断的磨感，生产出对方需要的，满足对方需求的光刻机，而不是封门造车。

据网上的说法，ASML曾说公开图纸，别人也造不出高端光刻机，就是因为别人用同样的元件，也达不到它的分辨率精度和套刻精度，这就是最基本的差距，国内经验不足，人才少，就算给同样的元件，也搞不定光刻机。

我是喜马丑牛，我来试着回答。

光刻机是集成电路制造的关键核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子以及机械工业基础，世界上只有少数几个国家可以掌握。

这个领域的顶尖玩家数量很少，包括荷兰ASML，日本NIKON和CANON等，几乎上把控了整个高端的光刻机市场。

光刻机制造的难点在于:

1.光学器件。极高精度和极高稳定度的光学器件是光刻机的核心部件，世界上只有少数几家如蔡司等有能力制造，这些企业有相关专利的保护。

2.电子系统以及各种高精度传感控制系统。这一领域是工业的眼睛和神经，不仅是光刻机，几乎整个工业领域都被西方品牌控制，高精尖的传感控制系统很难在短期内有大的突破。

3.精密制造。材料以及加工工艺的精度，基础工业原件如轴承等的稳定性和精度等都将决定光刻机整体的精度和稳定性。

以上领域的突破不是一天两天的事，也不是空喊口号就可以解决的，需要全社会沉静下来，踏踏实实发展基础科学和工业才有可能在将来的某一天制造出属于我们自己的高精度光刻机。同时，相关专利也会是我们发展高端光刻机的制约，这一块也需要相关学科做系统的研发和准备。

到此，大家对2024法定节假日用光的解答时否满意，希望2024法定节假日用光的1解答对大家有用，如内容不符合请联系小编修改。